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不銹鋼真空電鍍原理

發布日期:2015-01-21

不銹鋼真空鍍原理:在真空條件下,應用氣體放電實現鍍膜,即在真空室中使氣體或被蒸發物質電離,在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下,將蒸發物或其反應產物蒸鍍在基材上。
不銹鋼真空鍍概念:不銹鋼真空鍍是在高溫,真空鈦金爐內,鈦、鋯、鉻金屬靶材,借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化,離子經電場加速而沉積帶負電荷的不銹鋼板上,從而形成色澤豐富艷麗的金屬膜。(可鍍鈦金、玫瑰金、香檳金、咖啡金、古銅、寶石藍、黑鈦、紫羅蘭、翡翠綠等)
真空鍍表面特征:
(1)外觀:純金屬膜,凝重而華麗的金屬光澤
(2)抗腐蝕和氧化性:不褪色,不易劃傷
(3)良好的可塑性:在彎曲90度以上,不易斷裂或脫皮及表面檫傷
(4)耐抗性:硬度系數超過80RC
真空鍍基材加工要求:
板材厚度:0.40-3.0mm
板材寬度:300mm-1500mm
基材表面:拉絲 蝕刻 亂紋 鏡面 鐳射
應用范圍領域:真空PVD鍍膜不同與傳統的電鍍等方式,因為其獨特的性能,高硬度,防磨檫,不剝落,不褪色,高度防腐,并且不受紫外線影響,因此,PVD鍍膜不銹鋼是作為一種獨特的裝飾材料被廣泛應用于各種裝飾領域。

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